Методы экспериментов синхротронного излучения обладают уникальными преимуществами в изучении структуры и физических свойств материалов, однако достижение высоких температур в месте проведения эксперимента синхротронного излучения, в том числе температур выше 2 000 K, остается вызовом для многих методов экспериментов. Метод лазерного нагрева позволяет достичь экстремальных высоких температур в микрозоне быстро и уже стал важным инструментом в исследовании физических свойств материалов при высоких температурах. На фоне отсутствия соответствующих условий высоких температур в области исследований экстремальных высоких температур, таких как высокоэнтропийные сплавы, лопатки турбины, материалы авиации и другие, на источнике синхротронного излучения в Шанхае отсутствуют соответствующие условия высоких температур, поэтому было разработано портативное устройство для непрерывного лазерного нагрева, позволяющее получить спектр теплового излучения образца с помощью спектрометра и оценить градиент температуры и стабильность температуры образца с помощью метода излучения черного тела. С помощью этого устройства удалось добиться быстрого плавления пластины вольфрама в вакуумной среде (с точкой плавления около 3 695 K), а также получить рентгеновские дифракционные спектры MoS₂ и CTAB-MoS₂ при условиях на месте излучения синхротронного излучения в Шанхае при температуре около 1 608 K. Разработанный метод лазерного нагрева расширил возможности экспериментов источника света в Шанхае в экстремальных условиях и предоставил важное средство для изучения физических свойств материалов в условиях экстремально высокой температуры.

Лазерный нагрев; Синхротронное излучение; На месте эксперимент; Рентгеновская дифракция